今天離源環(huán)保給大家介紹一下芯片生產廢水處理,集成電路芯片制造生產工藝復雜,包括硅片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉,生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3?H2O等。將芯片生產廢水處理分為:含氨廢水處理系統(tǒng)、含氟廢水處理系統(tǒng)、CMP研磨廢水處理系統(tǒng)及酸堿廢水處理系統(tǒng)。
含氨廢水有兩部分,一部分是濃氨氮廢水,主要含氨氮和雙氧水,氨氮濃度達400~1200mg/L;另一部分是稀氨廢水,主要含氟化氨,氨氮濃度低于100mg/L。
工藝中采用CaCl2溶液代替?zhèn)鹘y(tǒng)去氟采用的消石灰,可減少氟化鈣污泥量、原料用量和堿液,同時,可避免粉態(tài)消石灰的逸散,防止管道堵塞,易于控制投加量,確保系統(tǒng)的穩(wěn)定高效運行。
CMP研磨廢水處理系統(tǒng)
研磨廢水處理與含氟廢水處理很相近,若從節(jié)省投資的角度考慮,可以采用同一系統(tǒng)同時處理含氟和CMP研磨兩股廢水,否則,將增加額外的投資。
當今時代芯片生產廢水嚴重的污染的水資源及環(huán)境,有效的芯片生產廢水處理已刻不容緩。
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